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廣州泉聲電子

發(fā)布時間: 2024-06-06 來源:

磁控濺射是物..相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。








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